第511章 启动

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在全彩设备的四条新线，全面上马的时候，光电科研的另一个项目，也悄悄启动了。

甘肃省平凉县，某研究所。

“所长，光电科研的小成，给我们打了一个电话，询问1.5微米光刻机的事情。”

“咦？他们的lcd产线，要用到这么高精度的光刻机了吗？”

作为精密光机的股东之一，研究所对光电及其下属的全彩，动向还是十分了解的。

国内的半导体设备行业，在这段时间全都吃了个饱。但也有个别细分行业是例外。光刻机这个细分行业就是其中之一。

lcd用大尺寸低精度光刻机，都被精密光机给截留了。研究所在92年，只能靠一些led行业升级订单维持，与去年的热闹景象，完全不能比较了。

看着兄弟单位红红火火的局面，要说不羡慕是不可能的。接到了消息，大家本能的反应就是，我们的机会来了啊！

精密光机毕竟底蕴不足，从10微米，步进到5微米，已经是他们在短短一年时间里能取得的最大成就。

“不是的。他们想上一条小规模的晶圆厂，主要目的是生产lcd驱动芯片。这条产线的技术指标是2微米，3寸晶圆。”

“噢。这样啊。没有问题啊。”

1.5微米的光刻机，研究所85年就开发出来了，技术非常成熟。

虽然有些失望，但有总比没有好。这两年，除了led和lcd产业产生的额外订单以外，真正来自半导体本身的订单，是少之又少。它甚至少到，都快被大家遗忘的程度了。

“他还在问我们的0.8微米光刻机是否可以在93年面世。”

“他们这是准备做什么？为什么要问0.8微米光刻机的事情？”

研究所也有后续精度光刻机的研发计划，但受困于资金，进展始终不快。从85年算起，到现在7年了，升级换代产品一直没有出来。

不过随着时间的推移，技术也在慢慢进步，0.8微米的光刻机，已经看见曙光。大家努努力，还是有可能在93年面世。原历史，94年面世

“他说，光电有个技术进步路线图，他不仅仅是要上0.8微米，而且希望在94年，最迟95年能看到0.5微米光刻机。”

“这根本不可能！这不是开玩笑吗？他以为光刻机是什么？”

“我跟他说了，但他一直坚持。就是这个时间做不到，也要我们给出一个预计时间。”

秘书也不是什么不懂。不合理的东西，早顶回去了。

“这怎么给？没有钱，怎么做研发？下次他再点打电话，告诉他，他要是投钱给我们，我们就帮他做研发。”

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